Article Dans Une Revue
Heat Transfer Engineering
Année : 2015
Olivier RIOU : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://univ-angers.hal.science/hal-04139987
Soumis le : samedi 24 juin 2023-08:22:15
Dernière modification le : mercredi 29 novembre 2023-03:36:05
Citer
Pierre-Olivier Logerais, Raouf Khelalfa, Olivier Riou, Jean-Félix Durastanti, Anne Bouteville. Influence of the Window Thermal Diffusivity on the Silicon Wafer Temperature in a Rapid Thermal System. Heat Transfer Engineering, 2015, 36 (13), pp.1111-1121. ⟨10.1080/01457632.2015.987588⟩. ⟨hal-04139987⟩
13
Consultations
0
Téléchargements