Physical Vapor Deposition technique and its application to thin organometallic films - Université d'Angers Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Physical Vapor Deposition technique and its application to thin organometallic films

B. Kulyk
  • Fonction : Auteur
D. Guichaoua
  • Fonction : Auteur
A. Ayadi
  • Fonction : Auteur
A. El-Ghayoury
  • Fonction : Auteur
A. Zawadzka
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 976915
P. Plociennik
  • Fonction : Auteur
K. Waszkowska
  • Fonction : Auteur
Z. Masewicz
  • Fonction : Auteur
A. Aamoum
  • Fonction : Auteur
J. Strzelecki
  • Fonction : Auteur
A. Korcala
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02886154 , version 1 (01-07-2020)

Identifiants

Citer

B. Kulyk, D. Guichaoua, A. Ayadi, A. El-Ghayoury, A. Zawadzka, et al.. Physical Vapor Deposition technique and its application to thin organometallic films. 2017 19th International Conference on Transparent Optical Networks (ICTON), Jul 2017, Girona, France. pp.1-3, ⟨10.1109/ICTON.2017.8024901⟩. ⟨hal-02886154⟩
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